24,3 млрд рублей выделены на оборудование, в основном — зарубежное
На создание Научно-технологического центра фотошаблонов (НТЦ ФШ) в Зеленограде направят не менее 31,7 млрд рублей. Об этом сообщает CNews со ссылкой на материалы проекта. Центр создается на базе НИУ МИЭТ в особой экономической зоне «Технополис Москва» и должен стать одним из ключевых элементов российской микроэлектронной отрасли.
Основную часть финансирования — 24,3 млрд рублей — выделяет Минпромторг. Эти средства пойдут на закупку технологического оборудования. Еще 7,4 млрд рублей предоставит правительство Москвы на строительство производственного комплекса. Первоначально стоимость строительства оценивалась в 3,6 млрд рублей, однако после расширения технического задания смета выросла более чем вдвое.
Согласно поручению заместителя председателя правительства РФ Дениса Мантурова, в перспективе центр должен освоить выпуск фотошаблонов для производства микросхем по технологическим нормам вплоть до 28 нм.
Для оснащения предприятия планируется приобрести 73 единицы специализированного оборудования. На данный момент законтрактованы 49 установок, из которых 30 уже поставлены. Большая часть техники закупается у зарубежных производителей, однако часть оборудования поставят российские и белорусские компании.
Среди отечественных разработок — многолучевой лазерный генератор изображения для изготовления фотошаблонов с нормами до 250 нм, а также система контроля топологии и поиска дефектов, способная обнаруживать дефекты размером до 90 нм.
Большинство оборудования планируется установить и ввести в эксплуатацию до конца 2026 года. К этому же сроку должен быть построен новый производственный корпус площадью 14,5 тыс. квадратных метров.
Проектная мощность центра составит не менее 5,5 тыс. фотошаблонов в год с возможностью дальнейшего увеличения до 10 тыс.
Освоение технологий будет проходить поэтапно. В 2026–2027 годах предприятие планирует наладить выпуск фотошаблонов для техпроцессов 350 и 250 нм. В 2028–2029 годах предполагается освоение норм 180 и 90 нм, к 2030 году — 65 нм, а в дальнейшем — выход на производство фотошаблонов для 28-нанометрового техпроцесса.
Основными заказчиками продукции должны стать российские производители микроэлектроники, включая «Микрон», «НМ-Тех» и НИИМЭ.