В 2026 году заказчикам может быть поставлено пять таких систем
Китай начал серийный выпуск собственных иммерсионных DUV-литографов — оборудования, которое считается одним из ключевых элементов современного производства микросхем. Как сообщает The Information со ссылкой на свои источники, первые установки уже в этом году планируется поставить крупнейшим китайским производителям чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT).
По данным издания, в течение 2026 года производитель намерен выпустить около пяти таких машин, а уже в 2027-м увеличить объем производства примерно до двадцати установок.
Официально название компании не раскрывается. Однако источники утверждают, что проект создавался при участии нескольких китайских предприятий, включая государственный стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. Сообщается, что опытный образец иммерсионного DUV-литографа проходит испытания на площадке SMIC еще с сентября 2025 года.
Большая часть компонентов нового оборудования производится внутри Китая, хотя некоторые критически важные узлы закупаются в Японии. Именно сложности с поставками этих компонентов пока ограничивают темпы серийного производства.
Иммерсионная DUV-литография — одна из самых сложных технологий, используемых для изготовления современных микросхем. Такие установки позволяют выпускать чипы по техпроцессу около 28 нм за один цикл экспозиции, а при использовании технологии многократной экспозиции (multiple patterning) способны производить и микросхемы уровня примерно 7 нм.
Запуск собственного производства литографов происходит на фоне усиливающегося давления со стороны США. Сейчас в Конгрессе рассматривается законопроект MATCH Act, который может запретить нидерландской компании ASML не только поставлять новые иммерсионные DUV-системы китайским предприятиям, но и обслуживать уже установленное оборудование. В числе компаний, которые могут быть потенциально затронуты MATCH Act, как раз фигурируют SMIC, Hua Hong и CXMT.